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Leica EM ACE 鍍膜儀

全新一代ACE系列鍍膜儀是徠卡與前沿科學家合作研發的結晶，它涵蓋了您在樣品制備過程中所需的所有鍍膜需求，從常溫鍍膜到冷凍斷裂/冷凍鍍膜.

樣品進行掃描電鏡觀察前，通常需要對其表面鍍一層金屬膜，以便減少觀察時產生的荷電，并增強二次電子或背散射電子信號，獲得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。

碳絲蒸發的新紀元

厚達40nm的碳膜可以被精確設定并準確獲得，通過脈沖碳絲蒸發，結合連續膜厚監控

（石英片膜厚控制），和獨特的軟件控制來實現。碳膜因此實現高度可重復性和均勻性。得益于可拆卸式玻璃門，擋板和樣品室屏蔽內壁，鍍膜源和樣品臺，樣品室內部清潔工作非常簡便。

主要特點:

少…

? 操作者干預時間和專業知識

? 投入成本

? 桌面占用面積

? 密封表面-單門式設計

? 清潔工作-可拆卸式玻璃門，樣品室屏蔽內壁和擋板

? 操作工作-簡易的插入式連接設計-無需借助工具

…即是多

? 直觀的觸摸屏設計和自動化過程控制

? 可定制硬件配置，軟件可升級

? 實驗室空間

? 可視化，裝樣簡便，抽真空快速

? 鍍膜高效，使您的工作時間更自由

? 鍍膜更純，膜厚更精準，結果重復性更好

技術指標：

· 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網格表面親水化）

· **設計脈沖式碳絲蒸發方式，可精確控制碳膜厚度

· 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm

· 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

· 觸摸屏控制，簡單方便

· 真空度­7×10-3mbar

· 濺射電流：0-150mA可調

· 方形樣品倉**設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

· 工作距離調節范圍：30mm-100mm