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PECVD系統就是為了使傳統的化學氣象沉積(CVD)反應溫度降低,在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離,形成等離子體,利用等離子體的活性來促進反應,所以這個系統稱為增強型化學氣相沉積系統(PECVD)。
該型號PECVD為成儀**款,綜合了國內大多數廠家的管式PECVD系統的優點,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂。而且控制部分采用了成儀自主研發的實驗電爐AIO全自動智能控制系統,使得操作更加簡便,功能更加強大。
主要特點:
1. AIO控制系統——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統一集中調節和操控,協調控制——成儀AIO控制系統;
2. 管內壓力自動平衡——管內壓力實時監測,自動平衡管內壓力。
3. 智能氣路通斷——每路氣體均可定時通斷,省時省力;
4. 射頻功率和開關定時控制——預先設定好功率的大小和打開與關閉的時間,自動運行;
5. 爐膛移動速度可調——根據實驗要求,用戶可設定爐膛左右移動的速度可距離;
6. 整機結構融為一體——移動方便,避免分散組裝的困擾。
技 術 參 數